TD5491 型加熱防腐型勻膠機 涂料設備產品介紹
TD5491 型加熱防腐型勻膠機 涂料設備面向實驗室基材旋涂制膜工藝研發生產，適配半導體、光電子領域科研工序，可完成常規旋涂以及光刻膠烘烤等帶加熱需求試驗。設備能夠精準調控薄膜成型均勻性，耐受酸堿、有機溶劑類漿料腐蝕，穩定制備鍍膜試樣，工藝規范貼合半導體實驗室旋涂通用標準，可根據細分實驗需求靈活調整各項運行參數。
將基片固定于真空吸盤，真空吸附保證基材平穩；滴膠模塊定量供給漿料，主軸按照預設轉速、加速度帶動基片高速旋轉，依靠離心力使液體在基材表面鋪展形成均勻薄膜；搭載內置加熱單元，旋涂完成后可直接分段升溫烘烤，一體完成旋涂、熱處理整套工序。
半導體行業晶圓涂布相關實驗；
光電子領域各類基片薄膜制備；
接觸強酸、強堿、有機溶劑漿料的涂布實驗；
光刻膠旋涂、分段烘烤類科研測試；
高校、檢測機構、企業研發部門常規薄膜制備實驗。
整機采用 PLC 整套電控系統管控運行，搭配 7 寸彩色觸控屏實現人機交互，操作界面支持中英文切換。轉速調節區間 0~12000rpm，空載加速度可在 100~8000rpm/s 自由設定，適配差異化旋涂工藝節奏。搭載 AIP 智能溫控模塊，實現室溫至 200℃區間加熱控溫，支持分段控溫操作。內置大容量曲線存儲，單條勻膠曲線最多劃分 1000 段，整機可保存 30 組完整工藝方案，成熟程序可直接調取復用。配置精密注射泵完成定量滴膠，量程 0.01~5ml，結構自帶防回流設計。支持正反旋涂、分段編程，除本機觸控外可遠程下發工藝參數；配備耐腐蝕透明蓋板阻隔有害氣體，多規格聚四氟吸盤滿足不同基片裝夾需求。
腔體標配聚四氟乙烯材質，可選配聚丙烯材質，耐酸堿、有機溶劑侵蝕，配備防廢液結構，減少腐蝕性液體外泄污染風險。溫控運行平穩，溫度波動控制在 ±1~2℃，升溫曲線可控，兼容各類烘烤工藝。采用高品質伺服步進傳動，整機振動小、運行噪音低，薄膜厚度誤差可控，成膜均勻性穩定。設備支持遠程參數下發，工藝程序可提前預設，操作上手簡單。真空接口、滴膠單元、加熱系統一體化集成，兼顧旋涂與原位烘烤，簡化實驗流程；支持多種尺寸吸盤選配，試樣兼容性廣。
適配半導體實驗室常規旋涂工藝規范，匹配光刻膠涂布、薄膜勻制對應的行業通用工藝指標。
控制系統采用 PLC 電控單元，配備 7 寸彩色觸摸屏，中英文界面可切換。轉速范圍 0~1200rpm，轉速精度 ±1；空載加速度可調區間 100~8000rpm/s。腔體材質選用聚四氟乙烯；最高加熱溫度室溫至 200℃，采用 AIP 智能分段控溫。抽氣接口為 φ6mm 快擰接頭，配套 50L/min 無油真空泵。滴膠單元為精密注射泵，量程 0.01~5ml，精度 ±1%，具備防回流結構。勻膠吸盤可選規格包含 φ10mm、φ25mm、φ55mm、φ100mm，均采用聚四氟材質。支持 USB 數據導出與嵌入式微型打印兩種數據輸出方式。整機供電 AC220V/50Hz；外形尺寸 310mm×365mm×350mm，設備重量 15kg。工藝存儲支持單條曲線最多 1000 段，整機可存儲 30 組獨立勻膠工藝。
咨詢客服→簽訂采購合同→買家付款→整機裝配生產→轉速系統、溫控模塊、真空吸附單元出廠校驗→按期發貨→全程技術售后支持設備出廠完成轉速精度、溫度穩定性、真空密封性全套校準；提供上門安裝調試、操作人員實操培訓、薄膜旋涂工藝方案指導。整機原廠質保，伺服驅動、溫控組件、真空傳感器核心配件常備庫存，7×24 小時遠程技術響應；可按需定制加長滴膠管路、特殊尺寸吸盤、更高溫度等級加熱模塊。
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